MH ニオブのターゲット純度グレードが利用可能
99.95% (4N) ニオブターゲット
● 金属不純物やガス状不純物が極めて少ない超高純度-
●安定したプラズマ、低パーティクル発生
● 半導体、超電導、ハイエンド電子フィルムに適しています。{0}
99.9% (3N) ニオブターゲット
● 高純度でコストパフォーマンスに優れています-
●工業用コーティング用途向けの信頼できるスパッタリング安定性
●電子・光学・機能性コーティング全般に適しています。
MH ニオブのターゲット フォーム
当社は、さまざまなスパッタリング システムに適合する複数の形状のニオブ ターゲットを提供しています。
長方形/正方形のターゲット
● 平面スパッタリング装置
●マグネトロンスパッタリングカソード
● 大面積の均一な膜堆積-
管状ターゲット
●ロータリースパッタリング装置
● 目標稼働率の向上
● 塗布均一性と生産効率の向上
(ご要望に応じてカスタム寸法と接着オプションも利用可能です。)
MH ニオブのターゲット仕様範囲
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純度 |
99.9%, 99.95% |
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密度 |
理論密度の 99.9% 以上 |
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粒子構造 |
細かくて均一 |
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表面仕上げ |
Ra0.4 |
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長方形/正方形のターゲット |
長さ3000mm以下、幅800mm以下、厚さ(mm) 1～20mm |
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管状ターゲット |
外径10～400mm、肉厚2～28mm |
99.95% 対 99.9% – 選択ガイド
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アイテム |
99.95% Nb ターゲット |
99.9% Nb ターゲット |
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純度レベル |
超高純度（4N）- |
高純度（3N） |
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不純物含有量 |
極めて低い |
低い |
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フィルムの品質 |
最高の均一性と安定性 |
安定した工業用グレード- |
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パーティクルの生成 |
最小限 |
低い |
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代表的な用途 |
半導体、超電導膜、研究開発 |
光学コーティング、機能性フィルム、量産 |
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コストレベル |
より高い |
より経済的 |
長方形ターゲットと管状ターゲット – 選択ガイド
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比較 |
長方形/正方形のターゲット |
管状ターゲット |
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プロセスの互換性 |
プレーナースパッタリング、マグネトロンスパッタリング |
円筒スパッタリング |
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素材の活用 |
20%~30% |
70%~85% |
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調達コスト |
適度 |
プレート目標をはるかに上回る |
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生産効率 |
少量のバッチ、多種類のコーティング- |
大規模なバッチと連続コーティング |
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表面処理 |
精密な研削と研磨 |
細かい研削、より困難 |
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提案された材料 |
純ニオブ (99.95%)、Nb-1Zr |
純ニオブ (99.95%)、Nb-1Zr (高温特殊用途) |
MH ニオブターゲットの代表的な用途
半導体薄膜
超電導ニオブコーティング
光学および装飾コーティング
ディスプレイと電子機器
研究と先進の機能性フィルム
MH ニオブターゲットを選ぶ理由
●高純度＆安定したスパッタリング性能
● 均一な微細構造と高密度
● 複数の形状が利用可能: 長方形と管状
● カスタム寸法と接着ソリューション
● 高度なコーティング用途での実証済みの使用
当社のニオブ スパッタリング ターゲットは、要求の厳しい薄膜用途に信頼性の高い純度、一貫したスパッタリング動作、高品質の膜性能を提供します。{0}
MH ニオブターゲットのカスタム製造
当社は、次のようなカスタム ニオブ ターゲット ソリューションを提供しています。
● 標準外の寸法-
● 厳格な公差管理
●特殊表面仕上げ
● アプリケーション固有の技術要件-
評価のために図面または詳細な仕様を提供してください。
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